[发明专利]基板限位结构有效

专利信息
申请号: 201210327340.6 申请日: 2012-09-06
公开(公告)号: CN102842475A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 张志圣;吕仁贵;黄胜铭;邱贊勋;角顺平;王潍淇 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01J9/24 分类号: H01J9/24
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 张艳杰;张浴月
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明涉及一种基板限位结构,用于限制对组的上基板与下基板于水平方向上的相对位置,基板限位结构包括主体与限位体。主体往第一方向延伸有第一板体且往第二方向延伸有第二板体,第一板体连接于第二板体且第一板体与第二板体大致呈L形。主体上透设有限位槽,限位体对应限位槽设置且限位体上端穿入限位槽。其中,限位体下端接合于下基板上,第一板体接合于上基板上,限位体抵持上基板的第一侧表面,第二板体抵持下基板的第二侧表面。本发明省略了铟球的使用,可节省材料支出,同时本发明的基板限位结构可便于回收再利用,从而降低了制作成本。
搜索关键词: 限位 结构
【主权项】:
一种基板限位结构,适用于限制对组的一上基板与一下基板于水平方向上的相对位置,该基板限位结构包括:一主体,往一第一方向延伸有一第一板体且往一第二方向延伸有一第二板体,该第一板体连接于该第二板体且该第一板体与该第二板体大致呈L形,该主体上透设有一限位槽;以及一限位体,对应该限位槽设置且该限位体上端穿入该限位槽;其中,该限位体下端接合于该下基板上,该第一板体接合于该上基板上,该限位体抵持该上基板的一第一侧表面,该第二板体抵持该下基板的一第二侧表面。
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  • 本发明提供了一种等离子体处理腔室及其基台的制造方法,其中,所述等离子体处理腔室包括一腔体,基台设置于所述腔体下方用于承载基片,反应气体从该腔体上方进入腔室并在射频能量的作用下激发成等离子体从而对所述基台之上的基片进行制程,其中,所述制造方法包括如下步骤提供一基体,并且在所述基体上设置冷却液通道;采用热压将第一绝缘层粘附在所述基体上方,其中,在所述第一绝缘层中设置有加热装置;采用热喷涂在所述基体外围做抗腐蚀涂层。本发明能有效防止电弧污染和金属污染,并且不会因为制造过程中压力和温度不同而造成材料层的融化。
  • 制作无极灯发光泡的方法和实现该方法的设备-201611151291.X
  • 陈星;李春景;王暖让;赵环;张振伟;薛潇博;张旭;杨仁福;冯克明 - 北京无线电计量测试研究所
  • 2016-12-14 - 2017-06-13 - H01J9/24
  • 本发明公开一种制作无极灯发光泡的方法和实现该方法的设备,该设备包括管状支架、泡架、真空计、多路阀门、抽真空装置和缓冲气体装置,所述泡架包括玻璃管和与玻璃管连通的L型玻璃弯管,所述玻璃管的一端与管状支架连通,另一端连接蓝宝石晶体制成的泡体,所述管状支架的一端封闭,另一端通过转接阀与真空计连接,真空计的另一端与多路阀门连接,抽真空装置通过真空规与多路阀门连接,缓冲气体装置通过气阀与多路阀门连接。本发明的设备有效减少对工作物质的损耗提高无极灯寿命。同时能够精确控制发光泡内的缓冲气体和工作物质。
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