[发明专利]一种等离子处理系统有效

专利信息
申请号: 201210317750.2 申请日: 2012-08-31
公开(公告)号: CN102820197A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 叶如彬 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)有限公司
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244;H01J37/32
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 张静洁;徐雯琼
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种等离子处理系统,包含等离子反应腔体,一个控制器控制等离子反应腔体内等离子处理流程,一个真空气泵通过排气管道将等离子反应腔体内的气体排出,还包含:采气管道,所述的采气管道连接在排气管道上,采集排气管道中的气体;一个采样等离子体发生装置对流经采气管道的气体电离形成采样等离子体;所述控制器探测所述采气管道中形成的采样等离子体信号,并根据所述采样等离子体信号控制所述等离子处理流程。本发明能够避免受射频电源输入波动的影响,确保了终点探测的可靠性。
搜索关键词: 一种 等离子 处理 系统
【主权项】:
一种等离子处理系统,包含等离子反应腔体(5),一个控制器控制等离子反应腔体内等离子处理流程,一个真空气泵(6)通过排气管道(4)将等离子反应腔体内的气体排出,其特征在于,还包含:采气管道(1),所述的采气管道(1)连接在排气管道(4)上,采集排气管道(4)中的气体;一个采样等离子体发生装置对流经采气管道(1)的气体电离形成采样等离子体;所述控制器探测所述采气管道(1)中形成的采样等离子体信号,并根据所述采样等离子体信号控制所述等离子处理流程。
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