[发明专利]一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法有效
| 申请号： | 201210300106.4 | 申请日： | 2012-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN102789128A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 张跃;陈翔;闫小琴;李欣;冯亚瀛;申衍伟;郑鑫 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 皋吉甫 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法，属于纳米材料图案化生长领域。本发明在三光束激光干涉模板法制备图案化ZnO纳米棒阵列的基础上，采用全光路介质全反射镜、防气流有机玻璃遮罩和低浓度多杯法显影三项技术，不仅避免了双光束激光干涉旋转多次曝光引起的模板畸形问题，而且降低了气流波动和显影疲劳带来的不利影响，使孔洞模板对比度和结构稳定性大幅提升，并利用改进后的模板进行限域水热生长，所得图案化ZnO纳米棒阵列可控而稳定。本发明简单有效、成本低廉、易于推广，为图案化ZnO纳米棒阵列走向器件应用奠定了坚实的基础。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 图案 zno 纳米 阵列 方法 | ||
【主权项】：
一种制备图案化ZnO纳米棒阵列的方法，能实现图案化ZnO纳米棒阵列可控而稳定的产出，其特征在于：该方法具体步骤如下：（1）搭建基于双面劳埃德镜的三光束激光干涉系统，全光路使用介质全反射镜，除激光器外，光学平台用透明有机玻璃遮罩遮盖；（2）对生长用基底进行超声清洗并旋涂负性紫外光刻胶；（3）对带有光刻胶的基片进行三光束激光干涉单次曝光，后采用低浓度多杯法显影得到高对比度六角排列圆形孔洞模板；（4）将带有所述模板的生长基底放入生长液中进行图案化ZnO纳米棒阵列限域水热生长，后取出、清洗并烘干，即可得到图案化ZnO纳米棒阵列。
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