[发明专利]硫化天冬氨酸修饰的退黑素衍生物及其应用有效

专利信息
申请号: 201210297948.9 申请日: 2012-08-20
公开(公告)号: CN102816103A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 冉瑞琼 申请(专利权)人: 冉瑞琼
主分类号: C07D209/14 分类号: C07D209/14;C07D401/12;A61K31/454;A61K31/405;A61K31/4045;A61P39/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 江磊
地址: 200025 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及肿瘤药物,提供了一种如下式所示的硫化天冬氨酸修饰的退黑素衍生物及其应用,其中,基团R1选自H、C1-C4烷基、C2-C4烯基;基团R2选自氢或卤素;基团R3选自C1-C4烷基、C2-C4烯基或所述衍生物可以用于接受化学治疗和放射治疗的癌症病人,降低恶性肿瘤放化疗的毒副反应。本发明还提供了同时包含上述衍生物与吲哚美辛的药物,该药物表现出对正常细胞的选择性保护。
搜索关键词: 硫化 天冬氨酸 修饰 退黑素 衍生物 及其 应用
【主权项】:
1.一种如以下式1所示的化合物,及其药学上可接受的盐:式1在以上结构式1中,基团R1选自H、C1-C4烷基、C2-C4烯基;基团R2选自氢或卤素;基团R3选自C1-C4烷基、C2-C4烯基或
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