[发明专利]一种实时监控装置及方法在审
申请号: | 201210297518.7 | 申请日: | 2012-08-20 |
公开(公告)号: | CN103632993A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 林伟旺 | 申请(专利权)人: | 北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01J37/317 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100871 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 申请提供了一种实时监控装置及方法,用于解决现有技术不能对离子注入剂量准确性、剂量控制器稳定性做实时监控的技术问题,该装置包括:信号获得单元,能与一离子注入设备的束流调节控制器连接,在所述离子注入设备正在对一集成电路进行离子注入的过程中,用于从所述束流调节控制器获得第一束流信号、开始注入信号及注入完成信号;处理单元,与所述信号获得单元连接,用于对所述第一束流信号,开始注入信号及注入完成信号进行处理,获得用于表征注入所述集成电路的剂量值是否符合一预设条件的参数值。 | ||
搜索关键词: | 一种 实时 监控 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种实时监控装置,其特征在于,包括:信号获得单元,能与一离子注入设备的束流调节控制器连接,在所述离子注入设备正在对一集成电路进行离子注入的过程中,用于从所述束流调节控制器获得第一束流信号、开始注入信号及注入完成信号;处理单元,与所述信号获得单元连接,用于对所述第一束流信号,开始注入信号及注入完成信号进行处理,获得用于表征注入所述集成电路的剂量值是否符合一预设条件的参数值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司,未经北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210297518.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造