[发明专利]接近式曝光装置及接近式曝光方法

摘要

本发明涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台（1）具有：将掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面侧的玻璃盖片（32）；对由掩模保持架（26）、掩模（M）及玻璃盖片（32）界定的空间（33）内的空气进行抽吸，使空间（33）内部减压的抽吸机构（40）；和从外部向减压空间（33）内供给空气的至少一条空气导入槽（35）。在将掩模（M）真空吸附并保持于掩模保持架（26）的下表面，并由抽吸机构（40）抽吸空间（33）内压力的状态下，经空气导入槽（35）向空间（33）供给外部空气，将空间（33）内压力调节为规定压力。

主权项

一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；掩模载置台，其保持具有需曝光图案的掩模；以及照射单元，其借助所述掩模对所述基板照射图案曝光用光，所述接近式曝光装置在所述掩模与所述基板接近，并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上，所述掩模载置台具有：掩模保持架，其将所述掩模真空吸附保持于其下表面；玻璃盖片，其被保持在所述掩模保持架的上表面侧；抽吸机构，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使所述空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且所述空气导入通路至少有一条。