[发明专利]接近式曝光装置及接近式曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种接近式曝光装置及接近式曝光方法，更详细而言，涉及适于在将掩模的图案曝光复制在例如液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器等的基板上时所使用的接近式曝光装置及接近式曝光方法。

背景技术

接近式曝光是将表面上涂布有感光剂的透光性基板（被曝光件）保持在曝光装置的工作台上，并且使该基板接近于保持在掩模载置台的掩模保持架上的掩模，使两者的间隔为例如数十μm～数百μm，通过照射装置，从掩模的与基板相反的一侧向掩模照射曝光用光，由此将绘制在掩模上的图案曝光复制在基板上。

另外，尽管接近式曝光中存在将掩模做成与基板相同的大小而一次性曝光的方式，但在该方式下，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上时，掩模趋于大型化，将在掩模的挠曲导致对图案的精度的影响和成本等方面出现问题。由于这样的原因，迄今为止，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上的情况下，有时会采用所谓步进式的接近式曝光方式，即，使用比基板小的掩模，使工作台相对于掩模步进移动，在每一步中，在将掩模配置在接近基板的状态下，照射图案曝光用光，由此，将绘制在掩模上的多个图案曝光复制在基板上。

掩模的挠曲对曝光精度有着很大的影响，特别是在大型掩模方面，掩模的挠曲有增大的趋势，因此优选极力减小挠曲。迄今为止，作为修正掩模挠曲的掩模保持装置，已知有，通过掩模保持架上形成的掩模吸附路将掩模吸附保持，并且，将掩模、掩模保持架和上盖所构成的空间与空气抽吸通路及空气导入通路相连接，调节该空间内部的压力到与掩模的自重相平衡的压力，从而使掩模向与重力方向相反的方向挠曲，抵消掩模的自重挠曲的装置（例如，参照专利文献1）。另外，还公开了如下曝光装置：将掩模、透明板和框架体所围成的空间与连接于排气装置的排气管及连接于空气导入装置的导入管相连接，将该空间内部的空气排出或将空气导入，从而修正掩模的挠曲（例如，参考专利文献2）。另外，还有将透明玻璃板固定配置在真空吸附掩模的真空吸附框架的框架内，通过真空抽吸透明玻璃板和掩模之间的空气，由真空吸附框架及透明玻璃板将掩模真空吸附，提高掩模的保持力，从而防止掩模的错动的装置（例如，参照专利文献3）。

专利文献1：日本特开2009-277900号公报

专利文献2：日本特开平8-82919号公报

专利文献3：日本特开2006-93604号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，根据专利文献1，因为从空气导入通路供给的空气经由掩模保持架与掩模的接合面供给到空气抽吸通路及掩模吸附通路，所以从接合面上只能供给极少的空气。因此，上盖和掩模很快向掩模保持架内部一侧挠曲，掩模和上盖有折损的可能。另外，专利文献2中，因为将连接于排气装置的排气管及连接于空气导入装置的导入管与空间相连接，通过将空气排出或导入来控制空间内部的压力，所以，真空发生装置周边需要很多的控制装置。另外，由于使用橡胶垫将掩模安装在框架体上，成本有可能会变高。而依照专利文献3，由于没有从外部导入空气的机构，空间内部变得负压过剩，有可能损伤掩模及透明玻璃板。

本发明是鉴于上述课题而提出，其目的在于，提供一种接近式曝光装置及接近式曝光方法，其能够以比较简单的结构对掩模的挠曲进行修正并将掩模保持，从而能够以高精度进行曝光复制。

解决课题的手段

通过下述结构来达到本发明的上述目的。

（1）一种接近式曝光装置，其具有：

基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；

掩模载置台，其保持具有应曝光图案的掩模；以及

照射单元，其借助上述掩模对上述基板照射图案曝光用光，

该接近式曝光装置在上述掩模与上述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将上述掩模的图案曝光复制在上述基板上，

其特征在于，上述掩模载置台具有：

掩模保持架，其将上述掩模真空吸附在下表面并保持；

玻璃盖片，其被保持在上述掩模保持架的上表面一侧；

抽吸机构，其抽吸至少由上述掩模保持架、上述掩模及上述玻璃盖片界定的空间内部的空气，使该空间内部减压；以及

空气导入通路，其从外部向被减压的上述空间内部供给空气，且至少有一条。

（2）根据上述（1）所述的接近式曝光装置，其特征在于，

上述的空气导入通路是配置于上述玻璃盖片与上述掩模保持架的接合部的空气导入槽。