[发明专利]接近式曝光装置及接近式曝光方法

权利要求书

1.一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：

基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；

掩模载置台，其保持具有需曝光图案的掩模；以及

照射单元，其借助所述掩模对所述基板照射图案曝光用光，

所述接近式曝光装置在所述掩模与所述基板接近，并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上，

所述掩模载置台具有：

掩模保持架，其将所述掩模真空吸附保持于其下表面；

玻璃盖片，其被保持在所述掩模保持架的上表面侧；

抽吸机构，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使所述空间内部减压；以及

空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且所述空气导入通路至少有一条。

2.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述空气导入通路是配置于所述玻璃盖片与所述掩模保持架的接合部的空气导入槽。

3.根据权利要求1或2所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模载置台还具有掩模框架，所述掩模框架将所述掩模保持架真空吸附并保持于所述掩模框架的下表面，所述掩模载置台由掩模驱动部来驱动。

4.根据权利要求3所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模保持架的上表面具有突起部或凹部，

所述掩模框架的下表面具有凹部或突起部，

所述掩模保持架的所述突起部或所述凹部与所述掩模框架的所述凹部或所述突起部卡合，将所述掩模保持架保持在所述掩模框架的下表面。

5.根据权利要求3或4所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模框架还具有掩模保持架支承机构，所述掩模保持架支承机构支承所述掩模保持架，防止所述掩模保持架从所述掩模框架脱落。

6.根据权利要求1～3中任意一项所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模保持架具有保持机构，所述保持机构将所述玻璃盖片保持在所述掩模保持架的规定的位置。

7.根据权利要求6所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模保持架选择其表面密度高于掩模M的表面密度的构件。

8.根据权利要求1所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述掩模载置台具有掩模框架，所述掩模框架的下表面安装有所述掩模保持架，并且将所述玻璃盖片真空吸附并保持于所述掩模保持架的下表面，

所述空间由所述掩模框架、所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定，

所述空气导入通路是配置在所述掩模框架与掩模保持架的接合部的空气导入槽。

9.根据权利要求8所述的接近式曝光装置，其特征在于，

所述空气导入通路设置在掩模保持架的中央部。

10.一种接近式曝光方法，

其利用权利要求1～9中任意一项所述的接近式曝光装置，在所述掩模与所述基板接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上，

其特征在于，其具有：

将所述掩模真空吸附在所述掩模保持架的下表面，并保持所述掩模的工序；和

在由所述抽吸机构抽吸所述空间内部的压力的同时，经由所述空气导入通路向所述空间供给所述外部的空气，从而将所述空间内部的压力调节为规定的压力的工序。