[发明专利]一种变焦距光刻物镜系统有效
申请号: | 201210279818.2 | 申请日: | 2012-08-08 |
公开(公告)号: | CN102998779A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 刘伟奇;吕博;冯睿;魏忠伦;柳华;康玉思;姜珊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B15/173 | 分类号: | G02B15/173;G03F7/20 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种变焦距光刻物镜系统,属于光学技术领域,本发明为了解决现有光刻物镜无法实现同一光刻物镜曝光出不同比例大小的掩模板曝光图形的问题,本发明系统从物面到像面依次为:物面、第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组、第四透镜组、第五透镜组和像面;物面为掩模板所在平面;第一透镜组用于固定物面与变焦距系统第一片透镜的距离;第二透镜组起到改变光刻物镜焦距及像面尺寸的作用;第三透镜组作用在于当变倍组移动过程中补偿像面的移动,使像面在整个变倍过程中保持位置固定;第四透镜组,具有负光焦度,第五透镜组,具有正光焦度,两者构成后固定组,用于保证光刻物镜靠近像面一侧的最后一片透镜与像面距离不变;像面为刻蚀基片所在平面。 | ||
搜索关键词: | 一种 焦距 光刻 物镜 系统 | ||
【主权项】:
一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,从物面一侧到像面一侧依次为:物面(O)、第一透镜组(G1)、第二透镜组(G2)、第三透镜组(G3)、第四透镜组(G4)、第五透镜组(G5)和接收面(I);物面(O)为掩模板所在平面;第一透镜组(G1)为前固定组,具有正光焦度,用于固定物面(O)与变焦距系统第一片透镜的距离;第二透镜组(G2)为变倍组,具有负光焦度,起到改变光刻物镜焦距及像面尺寸的作用;第三透镜组(G3)为补偿组,具有正光焦度,作用在于当变倍组移动过程中补偿像面的移动,使像面在整个变倍过程中保持位置固定;第四透镜组(G4),具有负光焦度,第五透镜组(G5),具有正光焦度,两者构成后固定组,用于保证光刻物镜靠近像面一侧的最后一片透镜与像面距离不变;像面(I)为刻蚀基片所在平面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210279818.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:序列化装置和序列化方法
- 下一篇:指针别名关系判断方法和代码多版本优化方法