[发明专利]一种变焦距光刻物镜系统有效
申请号: | 201210279818.2 | 申请日: | 2012-08-08 |
公开(公告)号: | CN102998779A | 公开(公告)日: | 2013-03-27 |
发明(设计)人: | 刘伟奇;吕博;冯睿;魏忠伦;柳华;康玉思;姜珊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B15/173 | 分类号: | G02B15/173;G03F7/20 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 焦距 光刻 物镜 系统 | ||
1.一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,从物面一侧到像面一侧依次为:物面(O)、第一透镜组(G1)、第二透镜组(G2)、第三透镜组(G3)、第四透镜组(G4)、第五透镜组(G5)和接收面(I);
物面(O)为掩模板所在平面;
第一透镜组(G1)为前固定组,具有正光焦度,用于固定物面(O)与变焦距系统第一片透镜的距离;
第二透镜组(G2)为变倍组,具有负光焦度,起到改变光刻物镜焦距及像面尺寸的作用;
第三透镜组(G3)为补偿组,具有正光焦度,作用在于当变倍组移动过程中补偿像面的移动,使像面在整个变倍过程中保持位置固定;
第四透镜组(G4),具有负光焦度,第五透镜组(G5),具有正光焦度,两者构成后固定组,用于保证光刻物镜靠近像面一侧的最后一片透镜与像面距离不变;
像面(I)为刻蚀基片所在平面。
2.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,变焦距光刻物镜系统共包括22块透镜,从靠近物面一侧到靠近像面一侧依次排列。
3.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,第一透镜组(G1)由第一透镜至第三透镜组成,第一透镜为双凸透镜、第二透镜为负弯月透镜和第三透镜为双凸透镜。
4.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,第二透镜组(G2)由第四透镜和第五透镜组成,第四透镜为薄负透镜,第五透镜为负透镜,且第四透镜的后表面与第五透镜的前表面曲率半径相同,第四透镜和第五透镜可交合在一起或可无限接近。
5.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,第三透镜组(G3)由第六透镜和第七透镜组成,第六透镜为双凸透镜,第七透镜为双凸透镜。
6.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,第四透镜组(G4)由第八透镜至第十二透镜组成,第八透镜为正弯月透镜、第九透镜为负弯月透镜、第十透镜至第十二透镜为薄负弯月透镜;且第八透镜的后表面与第九透镜的前表面曲率半径相同,第八透镜和第九透镜可交合在一起或可无限接近。
7.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,第五透镜组(G5)由第十三透镜至第二十二透镜组成,第十三透镜为厚负透镜,第十四透镜至第十五透镜为正透镜,第十七透镜为正弯月透镜,第十八透镜为厚弯月镜,第十九透镜为负透镜,第二十透镜为薄正透镜,第二十一透镜和第二十二透镜为厚正透镜。
8.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,光刻物镜系统中最大透镜全口径小于153mm。
9.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,光刻物镜系统的总长为805mm,光学透镜组的总长655.4mm,物面(O)到第一透镜前表面的距离为147.5733mm,第二十二透镜后表面到像面(I)的距离为3.5mm。
10.根据权利要求1所述的一种变焦距光刻物镜系统,其特征在于,光刻物镜系统的工作波长为410nm。
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