[发明专利]彩膜基板的制备方法、彩膜基板及半反半透式液晶显示装置有效
| 申请号： | 201210265595.4 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102778781A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 惠官宝;张锋;崔承镇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02B5/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及液晶显示技术领域，公开了一种彩膜基板的制备方法包括制备黑矩阵的掩模板，针对特定颜色亚像素在黑矩阵的掩模板上设有特定的光孔填充图案；制备彩膜的掩模板，针对不同颜色亚像素制备的彩膜的掩模板上设有大小相同的通光孔；且所述通光孔的位置与所述光孔填充图案的位置相对应；利用所述黑矩阵的掩模板和所述彩膜的掩模板制备彩膜基板。本发明还公开一种彩膜基板及半反半透式液晶显示装置，实现了使用一个彩膜的掩膜板制备具有不同实际通光孔大小的红、绿、蓝亚像素彩膜层，从而保证所述彩膜基板应用于显示装置保证显示效果的同时，降低了彩膜基板的生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 彩膜基板 制备 方法 半反半透式 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、制备黑矩阵的掩模板，针对特定颜色亚像素在黑矩阵的掩模板上设有特定的光孔填充图案；S2、制备彩膜的掩模板，针对不同颜色亚像素制备的彩膜的掩模板上设有大小相同的通光孔；且所述通光孔的位置与所述光孔填充图案的位置相对应；S3、利用所述黑矩阵的掩模板和所述彩膜的掩模板制备彩膜基板。
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