[发明专利]高纯电镀级硫酸铜除钙镁工艺

摘要

本发明的主要内容是以含铜蚀刻废液为原料，经过净化除铅工艺，除去含铜蚀刻废液中的杂质铅，使最终生成的电镀级硫酸铜中的钙离子含量不大于50ppm，镁离子的含量不大于10ppm。其特征在于包括以下步骤：（1）含铜蚀刻废液的过滤去除机械杂质；（2）净化除铅砷；（3）调节pH；（4）净化除钙镁（5）酸性中和生成铜盐沉淀；（6）铜盐沉淀洗涤纯化；（7）浓硫酸酸化；（8）冷却结晶形成硫酸铜结晶。本发明工艺具有生产成本低，工艺简单，生产出的硫酸铜纯度高，钙镁离子含量低等优点。

主权项

高纯电镀级硫酸铜除钙镁工艺，其特征在于该工艺包括以下步骤：（1）将酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液分别压滤，除去机械杂质；（2）分别对酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液进行除铅砷工艺；（3）搅拌下，用碱性溶液调节酸性蚀刻废液的pH；（4）对酸性蚀刻废液用NaF进行除钙、镁工艺；（5）对碱性蚀刻废液用NaF进行除钙、镁工艺；（6）将反应完成之后的酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液沉降，过滤；（7）中和酸性蚀刻废液和碱性蚀刻废液；（8）陈化，过滤；（9）洗涤；（10）酸化；（11）冷却结晶。