[发明专利]成像光学系统和投射曝光设备无效
| 申请号： | 201210220221.0 | 申请日： | 2008-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN102749810A | 公开（公告）日： | 2012-10-24 |
| 发明（设计）人： | 汉斯-于尔根.曼;威廉.乌尔里克;斯蒂芬.马伦德;哈特穆特.恩基希 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 成像光学系统（7）具有多个镜（M1至M6）。这些镜将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。在成像光学系统（7）中，镜（M1至M6）的反射表面上的成像光（15）的最大入射角和成像系统（7）的像方数值孔径的比小于33.8°。这产生为镜的反射涂层提供好的条件的成像光学系统，利用该成像光学系统，当成像光通过该成像光学系统时，尤其甚至在小于10nm的EUV范围内的波长，对于成像光仍能够获得低的反射损失。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 光学系统 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
具有至多为0.5的像方数值孔径的成像光学系统，其特征在于分辨能力好于8nm。
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