[发明专利]Al衬底用化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201210219203.0 | 申请日： | 2012-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN102757732A | 公开（公告）日： | 2012-10-31 |
| 发明（设计）人： | 王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 申请（专利权）人： | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 许亦琳;余明伟 |
| 地址： | 201506 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种化学机械抛光液，尤其涉及一种可有效应用于Al衬底化学机械抛光工艺的抛光液。本发明提供一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质。其中以抛光液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：抛光颗粒0.1-50wt%；氧化剂0.01-10wt%；螯合剂0.01-5wt%；腐蚀抑制剂0.0001-5wt%；表面活性剂0.001-2wt%；余量为pH调节剂和水性介质。可显著降低化学机械抛光后Al衬底表面的桔皮坑等缺陷,从而大大改善抛光后Al衬底表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | al 衬底 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质；其中以抛光液总重量为基准，上述组分的重量百分比为：抛光颗粒0.1‑50wt%；氧化剂0.01‑10wt%；螯合剂0.01‑5wt%；腐蚀抑制剂0.0001‑5wt%；表面活性剂0.001‑2wt%；余量为pH调节剂和水性介质。
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