[发明专利]Al衬底用化学机械抛光液有效
申请号: | 201210219203.0 | 申请日: | 2012-06-28 |
公开(公告)号: | CN102757732A | 公开(公告)日: | 2012-10-31 |
发明(设计)人: | 王良咏;刘卫丽;宋志棠 | 申请(专利权)人: | 上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C23F3/02 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 许亦琳;余明伟 |
地址: | 201506 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | al 衬底 化学 机械抛光 | ||
1.一种Al衬底用化学机械抛光液,包含抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质;其中以抛光液总重量为基准,上述组分的重量百分比为:
抛光颗粒0.1-50wt%;
氧化剂0.01-10wt%;
螯合剂0.01-5wt%;
腐蚀抑制剂0.0001-5wt%;
表面活性剂0.001-2wt%;
余量为pH调节剂和水性介质。
2.如权利要求1所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抛光颗粒、氧化剂、鳌合剂、腐蚀抑制剂、表面活性剂、pH调节剂及水性介质的重量百分比为:
抛光颗粒0.5-40wt%;
氧化剂0.1-5wt%;
螯合剂0.05-2wt%;
腐蚀抑制剂0.001-1wt%;
表面活性剂0.001-1wt%;
余量为pH调节剂和水性介质。
3.如权利要求2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抛光颗粒为胶体/烧结SiO2,其粒径范围为1-500nm。
4.如权利要求3所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抛光颗粒的粒径范围为5-150nm。
5.如权利要求2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述氧化剂选自过硫酸钾、过硫酸铵、过氧化苯甲酰、双氧水、过氧化丁酮、铁氰化钾、碘酸、过氧化脲、高碘酸、硝酸铁和高锰酸钾中的一种。
6.如权利要求2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述鳌合剂选自葡萄糖酸、丙二胺四乙酸、水杨酸、乙二胺二邻苯基乙酸钠、乙二胺四乙酸(EDTA)、1,2-二甲基-3-羟基-4-吡啶酮、硼酸、苯甲酸、次氮基三乙酸、邻苯二甲酸、抗坏血酸、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙级氢氧化铵、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三乙醇胺、哌嗪、二乙基三胺五乙酸、丁二酸、碘化钾中的一种。
7.如权利要2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抑制剂选自硝酸铈铵、结晶紫染料、三氯化铈、硫酸、磷酸、苯丙三唑、吡唑及咪唑。
8.如权利要求7所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抑制剂选自硝酸铈铵和三氯化铈。
9.如权利要求2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述表面活性剂选自脂肪聚丙烯酰胺、聚氧乙烯醚(AEO)、聚丙烯酸、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯、聚马来酸、聚乙烯吡咯烷酮、吐温80和十六烷基三甲基溴化铵,其中聚合物数均分子量选自50-5000000。
10.如权利要求2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述pH调节剂选自乙酸、柠檬酸、硝酸、酒石酸、草酸、盐酸、氢氧化钾、氢氧化钠、氨水、哌啶、8-羟基喹啉、甲胺、乙胺、羟乙基乙二氨、己胺、辛胺及环己胺。
11.如权利要求2所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抛光液的pH值的范围为1-13。
12.如权利要求11所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,其特征在于,所述抛光液的pH值的范围为2-11。
13.如权利要求1-12任意权利要求所述的一种Al衬底用化学机械抛光液,在抛光材料为Al衬底材料的抛光工艺中的应用。
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