[发明专利]一种低触发电压的可控硅静电放电保护结构有效
申请号: | 201210196986.5 | 申请日: | 2012-06-14 |
公开(公告)号: | CN102693980A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 李飞鸣 | 申请(专利权)人: | 上海贝岭股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 上海兆丰知识产权代理事务所(有限合伙) 31241 | 代理人: | 章蔚强 |
地址: | 200233 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种低触发电压的可控硅(SCR)静电放电保护结构,包括P型衬底,在该P型衬底上包括有相邻的N阱和P阱,在所述的N阱内包括有第一N型注入区和第一P型注入区,在所述的P阱内包括有第二N型注入区、第三N型注入区和第二P型注入区,在所述第二N型注入区和第三N型注入区之间的表面包括有栅氧化层,在该栅氧化层的表面包括有多晶硅栅极,其中,所述第一N型注入区和第一P型注入区均与第一输入端相连;所述第三N型注入区、第二P型注入区和多晶硅栅极均与第二输入端相连;所述第二N型注入区通过一电阻与第一输入端相连。本发明能充分发挥SCR结构具有的大电流特性和保护能力,提供一个较高的ESD防护水平。 | ||
搜索关键词: | 一种 触发 电压 可控硅 静电 放电 保护 结构 | ||
【主权项】:
一种低触发电压的可控硅静电放电保护结构,包括P型衬底,在该P型衬底上包括有相邻的N阱和P阱,在所述的N阱内包括有第一N型注入区和第一P型注入区,在所述的P阱内包括有第二N型注入区、第三N型注入区和第二P型注入区,在所述第二N型注入区和第三N型注入区之间的表面包括有栅氧化层,在该栅氧化层的表面包括有多晶硅栅极,其中,所述第一N型注入区和第一P型注入区均与第一输入端相连;所述第三N型注入区、第二P型注入区和多晶硅栅极均与第二输入端相连;其特征在于,所述可控硅静电放电保护结构还包括一电阻,所述第二N型注入区通过该电阻与第一输入端相连。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的