[发明专利]一种波像差测量标记及波像差测量方法有效
申请号: | 201210183465.6 | 申请日: | 2012-06-06 |
公开(公告)号: | CN103472676A | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 马明英;段立峰 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01M11/02 |
代理公司: | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光辉 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提出一种波像差测量物面标记,形成在光刻机系统的掩模上,其特征在于该物面标记包括光栅标记和小孔标记,光栅标记和小孔标记分别在标记面上排成列,每个光栅标记和每个小孔标记构成一组标记并且排成一行。同时还提出了使用该物面标记测量波像差的方法。由于本发明的波像差测量物面标记既包括光栅标记,又包括小孔标记,在通过剪切干涉条纹测量波像差的同时,通过小孔标记测量剂量,从而提高了波像差测量精度,减小了光强不均匀性对波像差检测精度的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 波像差 测量 标记 测量方法 | ||
【主权项】:
一种波像差测量标记,其特征在于所述标记包括光栅标记和小孔标记,所述光栅标记和小孔标记分别在标记面上排成列,每个光栅标记和每个小孔标记构成一组标记并且排成一行。
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