[发明专利]一种波像差测量标记及波像差测量方法有效

专利信息
申请号: 201210183465.6 申请日: 2012-06-06
公开(公告)号: CN103472676A 公开(公告)日: 2013-12-25
发明(设计)人: 马明英;段立峰 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/02
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 王光辉
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 波像差 测量 标记 测量方法
【权利要求书】:

1.一种波像差测量标记,其特征在于所述标记包括光栅标记和小孔标记,所述光栅标记和小孔标记分别在标记面上排成列,每个光栅标记和每个小孔标记构成一组标记并且排成一行。

2.如权利要求1所述的物面标记,其特征在于所述光栅标记至少包含4个透光线条。

3.如权利要求1所述的物面标记,其特征在于所述光栅标记周期P与投影物镜数值孔径NA、曝光波长λ和移相步数N相关,按照P= N*λ/NA计算,其中N大于等于8。

4.如权利要求1所述的物面标记,其特征在于所述小孔标记可以是方孔或圆孔。

5.如权利要求1所述的物面标记,其特征在于所述测量标记分为物面标记和像面标记。

6.如权利要求5所述的物面标记,其特征在于所述物面标记位于投影物镜上方的掩模面上,所述像面标记位于投影物镜下方的光栅面上。

7.如权利要求5所述的物面标记,其特征在于所述物面标记的尺寸与所述像面标记的尺寸成比例关系,所述比例为投影物镜的放大倍率值。

8.如权利要求5所述的物面标记,其特征在于所述物面标记用于波像差检测,所述像面标记用于剂量探测。

9.一种使用如权利要求1所述的测量标记进行波像差测量的方法,包括如下步骤:

(1)所述测量标记分为物面标记和像面标记,将所述物面标记放置于投影物镜上方的掩模面上,所述像面标记放置于投影物镜下方的光栅面上;

(2)所述物面标记经过投影物镜成像到像面标记处,分别形成光栅标记像和小孔标记像,所述光栅标记像为用于波像差检测的剪切干涉条纹像,所述小孔标记像为用于剂量探测的物镜光瞳图像;

(3)图像传感器记录所述剪切干涉条纹像与光瞳图像;

(4)利用所述光瞳图像计算所述剂量,对剪切干涉条纹像进行校正;

(5)使用校正后的剪切干涉条纹像计算投影物镜波像差。

10.如权利要求9所述的测量方法,其特征在于,步骤(2)还包括:改变所述物面标记与像面标记之间的相对位置,从而在不同相移条件下测量所述剪切干涉条纹像和物镜光瞳像,剪切干涉条纹像和物镜光瞳像成一一对应关系。

11.如权利要求9所述的测量方法,其特征在于所述光栅标记至少包含4个透光线条。

12.如权利要求9所述的测量方法,其特征在于所述光栅标记周期P与投影物镜数值孔径NA、曝光波长λ和移相步数N相关,按照P= N*λ/NA计算,其中N大于等于8。

13.如权利要求9所述的测量方法,其特征在于所述小孔标记可以是方孔或圆孔。

14.如权利要求9所述的测量方法,其特征在于所述物面标记的尺寸与所述像面标记的尺寸成比例关系,所述比例为所述投影物镜的放大倍率值。

15.如权利要求9所述的测量方法,其特征在于所述图像传感器为二维阵列光敏元件。

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