[发明专利]一种高折射率散射膜的制备方法及应用

摘要

本发明公开一种高折射率散射膜的制备方法，包括如下步骤：S1、制备研磨分散液，所述研磨分散液包括：高折射率散射颗粒，质量百分比：10%-60%；分散剂质量占所述高折射率散射颗粒的1%-60%；防沉剂，质量百分比：0-5%；光刻胶，质量百分比：0-60%；有机溶剂，质量百分比为：20%-89.9%；S2、采用过滤孔孔径在0.8um-1.2um的滤纸压滤所述步骤S1制备的研磨分散液，得到制膜溶液；S3、所述步骤S2制备的所述制膜溶液经光刻旋涂于基底上；S4、所述步骤S3中的基底在60-80℃下烘烤30分钟，制备得到散射膜。上述高折射率散射膜将基底去掉即可贴在OLED器件外层，提高OLED器件的出光效率。

主权项

一种高折射率散射膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、制备研磨分散液，所述研磨分散液包括：高折射率散射颗粒，其质量百分比为：10%‑60%，初始粒径为100‑800nm；分散剂，其质量占所述高折射率散射颗粒的1%‑60%；防沉剂，其质量百分比为：0‑5%；光刻胶，其质量百分比为：0‑60%；有机溶剂，其质量百分比为：20%‑89.9%；S2、采用过滤孔孔径在0.8um‑1.2um的滤纸压滤所述步骤S1制备的研磨分散液，得到制膜溶液；S3、所述步骤S2制备的所述制膜溶液经光刻旋涂于基底上；S4、所述步骤S3中的所述基底在60‑80℃下烘烤30分钟，制备得到散射膜。