[发明专利]一种基于N型衬底的IBC电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 201210171007.0 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN102842646A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 柯航;汤安民;梅晓东;王学林 申请(专利权)人: 浙江晶科能源有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 吴关炳
地址: 314416 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种基于N型衬底的IBC电池的制备方法,使用激光掺杂的方法来制备发射极,具体包括以下步骤:硅片表面织构化处理、硅片表面镀介质膜、用激光对背表面局部重掺杂N+区和P+区、用激光对正表面全部轻掺杂N+区、去除表面介质膜、硅片表面制备钝化膜、硅片表面制备减反射膜并完成正负电极制备,本发明通过对表面旋涂有相应杂质源的硅片进行激光扫描,利用激光的高能量使硅片表面加热到熔融状态,从而使杂质能很好的扩散到体内,能很好的控制掺杂的区域,未掺杂的地方不会产生晶格缺陷,工艺简单合理安全可靠。
搜索关键词: 一种 基于 衬底 ibc 电池 制备 方法
【主权项】:
一种基于N型衬底的IBC太阳电池的制备方法,其特征在于,使用激光掺杂的方法来制备发射极,具体包括以下步骤:⑴对晶体硅片进行表面织构化处理并进行化学清洗,然后在正背两面制备介质膜,使硅片表面具有亲水性;⑵在涂有磷源的晶体硅背表面利用激光扫描的方法制备局部N+重掺杂结构,并清洗干燥处理;⑶在涂有硼源的晶体硅背表面利用激光扫描的方法制备局部P+重掺杂结构,并清洗干燥处理;⑷在涂有磷源的晶体硅正表面利用全激光扫描的方法制备N+轻掺杂结构;⑸去除硅片正背两面的介质膜,并清洗干燥处理;⑹在硅片两面制备钝化膜;⑺在硅片两面制备减反射膜;⑻在硅片背面制作电池正、负电极;并烧结。
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