[发明专利]电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备、电子照相感光构件的生产方法和脲化合物有效
| 申请号： | 201210160293.0 | 申请日： | 2012-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN102799085A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 田中正人;野中正树 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/147 | 分类号： | G03G5/147;G03G5/07;G03G21/18;G03G15/00;C07C275/32;C07C275/28;C07C275/34;C07C275/30;C07C275/40 |
| 代理公司： | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人： | 魏启学 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备、电子照相感光构件的生产方法和脲化合物。一种电子照相感光构件和各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，所述电子照相感光构件包括通过固化具有链聚合性官能团的电荷输送物质和由下式(1)或(2)表示的脲化合物而形成的最外表面层。 |
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| 搜索关键词： | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 生产 方法 化合物 | ||
【主权项】：
1.一种电子照相感光构件，包括：支承体，设置在所述支承体上的感光层，其中，所述电子照相感光构件包括表面层，所述表面层包含通过聚合以下组合物可获得的聚合物，所述组合物包括：具有至少一个链聚合性官能团的电荷输送物质，和脲化合物，其中，所述脲化合物为选自由由下式(1)表示的化合物和由下式(2)表示的化合物组成的组中的至少一种化合物；和![]()
其中，式(1)和(2)中，R1至R5各自独立地表示未取代或取代的烷基、未取代或取代的烷氧基、二烷基氨基或卤素原子，X21至X24和X41至X46各自独立地表示亚烷基，P11至P14和P31至P36各自独立地表示氢原子、丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基，P11至P14的至少之一为丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基，P31至P36的至少之一为丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基，a、b、g和h各自独立地表示选自0至5的整数，i表示选自0至4的整数，和c、d、j和k各自独立地表示0或1。
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其中，F表示电荷输送骨架；L表示二价连接基团；并且m表示1～8的整数，
其中，F表示电荷输送骨架；L’表示(n+1)价连接基团；m’表示1～6的整数；并且n表示2～3的整数。
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- 提供了一种表面上各自具有良好润滑性和良好清洁性的电子照相感光构件和中间转印构件，各自包括电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备，和包括中间转印构件的电子照相设备。因此，本发明的电子照相感光构件或中间转印构件的表面层包含基体成分和不与基体成分粘结并可转动地保持在基体成分的孔中的可转动保持的球状颗粒。
- 电子照相感光构件的表面加工方法和电子照相感光构件的生产方法-201310133333.7
- 西田孟;川井康裕;高桥孝治 - 佳能株式会社
- 2013-04-17 - 2013-10-30 - G03G5/147
- 本发明涉及电子照相感光构件的表面加工方法和电子照相感光构件的生产方法。在垂直于电子照相感光构件旋转轴的截面中，当作为截面与接触面(电子照相感光构件和成型构件接触的面)的交线的弧由弧AB表示，电子照相感光构件的截面的圆的中心由中心O表示以及在成型构件加压接触方向的直线中通过中心O的直线与弧AB的交点由交点C表示时，以使∠AOC和∠BOC分别满足下式(1)和(2)的方式将成型构件表面上的凹凸结构转印到电子照相感光构件的表面：0.5°≤∠AOC≤45°(1)，和0.5°≤∠BOC≤45°(2)。
- 电子照相光电导体和利用电子照相光电导体的图像形成方法、图像形成设备和处理盒-201280006101.9
- 田中裕二;永井一清;铃木哲郎;小饭冢佑介 - 株式会社理光
- 2012-01-12 - 2013-09-25 - G03G5/147
- 电子照相光电导体，包括：导电衬底；和导电衬底上至少光电导层，其中光电导层的最上面的表层包括通过化合物之间的聚合形成的三维交联膜，每一化合物含有电荷输送化合物和三个或更多个[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团，其中电荷输送化合物具有一个或多个芳环并且[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团连接电荷输送化合物的芳环，其中聚合在一些[(四氢-2H-吡喃-2-基)氧代]甲基基团已部分地分裂和消除之后开始，并且其中三维交联膜具有5.4或更高的电离电位。
- 专利分类
