[发明专利]用于制备致密层的电弧喷涂方法无效
| 申请号: | 201210153191.6 | 申请日: | 2012-05-17 |
| 公开(公告)号: | CN102787289A | 公开(公告)日: | 2012-11-21 |
| 发明(设计)人: | F.范罗迪南 | 申请(专利权)人: | 苏舍美特科公司 |
| 主分类号: | C23C4/12 | 分类号: | C23C4/12;C23C4/06 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周齐宏;杨思捷 |
| 地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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| 摘要: | 提供一种在基材上制备致密层的电弧喷涂方法,其中向两个导电的喷涂丝(2)施加电压并且借此在喷涂丝(2)间点燃电弧(6),其中在熔融区域(7)中从喷涂丝(2)产生熔体(8),其中流体(4)作用于熔体(8),该流体(4)将熔体(8)运输到基材(10),在此沉积熔体(8)生成层(18)。可氧化颗粒(11)被供给到熔体(8)并随熔体(8)一起沉积到基材(10)上;以及在喷涂结束后,可氧化颗粒(11)被至少部分氧化来使层(18)致密。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 制备 致密 电弧 喷涂 方法 | ||
【主权项】:
用于在基材上制备致密层的电弧喷涂方法,其中向两个导电的喷涂丝(2)施加电压,借此在喷涂丝(2)间点燃电弧(6),其中在熔融区域(7)中从喷涂丝(2)产生熔体(8),其中流体(4)作用于熔体(8),该流体(4)将熔体(8)运输到基材(10),在此沉积熔体(8)以生成层(18),其特征在于,向熔体(8)供给可氧化颗粒(11),其与熔体(8)一起沉积到基材(10)上;以及其中在喷涂结束后可氧化颗粒(11)被至少部分地氧化来使层(18)致密。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆





