[发明专利]一种微纳米材料及其制备方法、装置、应用有效
申请号: | 201210146327.0 | 申请日: | 2012-05-11 |
公开(公告)号: | CN102658076A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 杨国伟;梁英;刘璞;李红波 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 杨晓松 |
地址: | 510006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备微纳米材料的方法及装置,以及上述方法和装置所制备的微纳米材料,以及上述微纳米材料在磁学、医学、生物领域的应用。该装置是通过一个磁场施加装置在反应容器外围产生磁场。该方法是基于液相中脉冲激光烧蚀法,在反应容器外围加设磁场,制备时同时开启磁场和激光光源。本发明中的制备方法可以利用磁场有效控制微纳米材料的组装、生长,且该材料是在磁场环境中生长而成,因此在光、电、磁性能上与现有的微纳米材料会有不同。根据这些性能上的不同,可应用于磁学、医学、生物等领域。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 材料 及其 制备 方法 装置 应用 | ||
【主权项】:
一种制备微纳米材料的装置,其特征在于,包括激光器、全反镜、聚焦透镜、反应靶、液相物质、反应容器、磁场施加装置,反应靶设置在反应容器中,反应容器中有液相物质,液相物质浸没反应靶,磁场施加装置在反应容器外围产生磁场,激光器产生的激光依次经全反镜、聚焦透镜后聚焦在反应靶表面,工作时,磁场和激光光源同时作用于反应靶。
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