[发明专利]钛合金表面制备非晶-纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺有效
| 申请号： | 201210132901.7 | 申请日： | 2012-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN102644054B | 公开（公告）日： | 2012-08-22 |
| 发明（设计）人： | 徐江;李正阳;毛相震 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 李纪昌 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 钛合金表面制备非晶-纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺，主要制备工艺步骤为：首先进行双阴极等离子溅射沉积，工艺参数如下：靶材电压500~1000V，工件电压300~450V，靶材与工件间距10~30mm，工作气压20~45Pa，沉积温度450~850℃；然后进行离子氮化，工艺参数如下:工件电压650~850V，氮化温度450~600℃，工作气压20~45Pa，氮分压0.1-1Pa；离子氮化时间1-2小时；溅射的靶材的种类：Mo0.1-0.3(Si0.90,Al0.10)0.9-0.7；工件材料的种类：钛合金。该复合非晶-纳米晶硅化物涂层具有高韧性、高硬度、优异的耐蚀性、耐磨和抗氧化性能。 | ||
| 搜索关键词： | 钛合金 表面 制备 纳米 晶二硅化钼基 耐磨 涂层 复合 处理 工艺 | ||
【主权项】：
钛合金表面制备非晶‑纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺，其特征在于主要制备工艺步骤为：a. 首先进行双阴极等离子溅射沉积，工艺参数如下：靶材电压500~1000 V，工件电压300~450 V，靶材与工件间距10~30 mm，工作气压20~45Pa，沉积温度450~850℃；b. 然后进行离子氮化，工艺参数如下: 工件电压650~850V，氮化温度450~600℃，工作气压20~45Pa，氮分压0.1‑1 Pa；离子氮化时间1‑2小时；c.溅射的靶材的种类：Mo0.1‑0.3(Si0.90,Al0.10)0.9‑0.7；d. 工件材料的种类：钛合金。
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