[发明专利]钛合金表面制备非晶-纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺有效
申请号: | 201210132901.7 | 申请日: | 2012-04-28 |
公开(公告)号: | CN102644054B | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 徐江;李正阳;毛相震 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/06 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 李纪昌 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钛合金 表面 制备 纳米 晶二硅化钼基 耐磨 涂层 复合 处理 工艺 | ||
1.钛合金表面制备非晶-纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺,其特征在于主要制备工艺步骤为:
a. 首先进行双阴极等离子溅射沉积,工艺参数如下:靶材电压500~1000 V,工件电压300~450 V,靶材与工件间距10~30 mm,工作气压20~45Pa,沉积温度450~850℃;
b. 然后进行离子氮化,工艺参数如下: 工件电压650~850V,氮化温度450~600℃,工作气压20~45Pa,氮分压0.1-1 Pa;离子氮化时间1-2小时;
c.溅射的靶材的种类:Mo0.1-0.3(Si0.90,Al0.10)0.9-0.7;
d. 工件材料的种类:钛合金。
2.根据权利要求1所述的钛合金表面制备非晶-纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺,其特征在于所述步骤a中靶材电压800V,工件电压400V,靶材与工件间距25 mm,工作气压40Pa,沉积温度800℃。
3.根据权利要求1所述的钛合金表面制备非晶-纳米晶二硅化钼基耐磨耐蚀涂层的复合表面处理工艺,其特征在于所述步骤b中工件电压800V,氮化温度500℃,工作气压35Pa,氮分压0.5 Pa;离子氮化时间1.5小时。
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