[发明专利]等离子熔覆制备钛铝基羟基磷灰石涂层的方法无效

专利信息
申请号: 201210116627.4 申请日: 2012-04-20
公开(公告)号: CN102634789A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 张小立;彭竹琴;刘英;张照军;卢金斌;赵慧君;刘芳;汤峰 申请(专利权)人: 中原工学院
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10;A61L27/32;A61L27/06
代理公司: 郑州中原专利事务所有限公司 41109 代理人: 张绍琳
地址: 451191 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明公开了一种等离子熔覆制备钛铝基羟基磷灰石涂层的方法,在涂覆有羟基磷灰石涂层的钛铝合金表面进行等离子熔覆,等离子熔覆法的熔覆参数为电流30-50A,扫描速度为0.5-5mm/s,钛铝基羟基磷灰石涂层的厚度为1.0-3.0mm。使用沉淀法制备羟基磷灰石粉末,经过洗涤、烘干、研磨、过筛,并和酒精甘油混合均匀后涂敷于经过腐蚀的钛铝合金表面,高温烧结后,再进行等离子熔覆,形成结合强度较高的涂层材料。该工艺稳定,易于形成大面积(≥10cm2)、大厚度(≥1.0µm)的涂层材料。涂层制备工艺简单,稳定性好,易掌握。强度可达60MPa,韧性可达1.0MPa·m1/2。
搜索关键词: 等离子 制备 钛铝基 羟基 磷灰石 涂层 方法
【主权项】:
等离子熔覆制备钛铝基羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于:在涂覆有羟基磷灰石涂层的钛铝合金表面进行等离子熔覆,等离子熔覆法的熔覆参数为电流30‑50A,扫描速度为0.5‑5mm/s,钛铝基羟基磷灰石涂层的厚度为1.0‑3.0 mm。
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