[发明专利]等离子熔覆制备钛铝基羟基磷灰石涂层的方法无效

专利信息
申请号: 201210116627.4 申请日: 2012-04-20
公开(公告)号: CN102634789A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 张小立;彭竹琴;刘英;张照军;卢金斌;赵慧君;刘芳;汤峰 申请(专利权)人: 中原工学院
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10;A61L27/32;A61L27/06
代理公司: 郑州中原专利事务所有限公司 41109 代理人: 张绍琳
地址: 451191 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 等离子 制备 钛铝基 羟基 磷灰石 涂层 方法
【权利要求书】:

1. 等离子熔覆制备钛铝基羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于:在涂覆有羟基磷灰石涂层的钛铝合金表面进行等离子熔覆,等离子熔覆法的熔覆参数为电流30-50A,扫描速度为0.5-5mm/s,钛铝基羟基磷灰石涂层的厚度为1.0-3.0 mm。

2. 根据权利要求1所述的等离子熔覆制备钛铝基羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于它的步骤如下:

(1)将目数为300-400目的羟基磷灰石与酒精、甘油混合,酒精的质量为羟基磷灰石质量的3.5-5%,甘油的质量为羟基磷灰石质量的3.5-5%,得到羟基磷灰石混合料;

(2)将钛铝合金表面打磨、抛光并经过腐蚀后,将羟基磷灰石混合料涂敷在钛铝合金表面,涂敷厚度为1.0-3.0mm,得到涂覆有羟基磷灰石涂层的钛铝合金;

(3)将涂覆有羟基磷灰石涂层的钛铝合金放入电阻炉中在1200-1300℃的条件下烧结,保温0.5-1小时,然后进行等离子熔覆,等离子熔覆的熔覆参数为电流30-50A,扫描速度为0.5-5mm/s,得到钛铝基羟基磷灰石涂层。

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