[发明专利]包括零磁性层的叠层在审
| 申请号： | 201210116121.3 | 申请日： | 2012-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN102682789A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | J-Y·金;T·P·诺兰;K·康;S·王;V·D·恩古耶;A·海卢;C·C·陈 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/851 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 姬利永 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供一种包括零磁性层的叠层，其包括晶体取向夹层、设置在夹层上的零磁性层以及设置在零磁性层上的磁记录层。零磁性层是非磁性的或者具有小于约100emu/cc的饱和磁通密度(Bs)。零磁性层和磁性层包括由非磁性隔离物间隔开的颗粒。零磁性层在夹层和磁性层之间提供共格界面，其晶格失配小于约4％。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 磁性 | ||
【主权项】：
一种叠层，包括：晶体取向夹层；位于所述夹层上的零磁性层，所述零磁性层是非磁性的或者具有小于约100emu/cc的饱和磁通密度(Bs)并且包括由非磁性隔离物间隔的颗粒；以及位于所述零磁性层上的磁性层，所述磁性层包括由非磁性隔离物间隔的铁磁颗粒，其中所述夹层和所述磁性层之间的晶格失配小于约4％。
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