[发明专利]一种SiO2减反射薄膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201210097416.0 | 申请日： | 2012-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN102617045A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 宋伟杰;兰品军;李佳;鲁越晖;杨晔;谭瑞琴 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 刘诚午 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。该薄膜具有优良的减反射性能、耐擦拭性能和耐久性。本发明还公开了该制备方法：在光伏玻璃上制备第一SiO2致密层，再制备SiO2纳米空心颗粒层并填充第二SiO2致密物，经高温处理得到SiO2减反射薄膜。该方法操作简单，适合工业化大规模应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 sio sub 反射 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm‑30nm厚的第一SiO2致密层、50nm‑300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；所述的第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm‑30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。
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