[发明专利]光掩模的制造方法、图案转印方法及显示装置的制造方法

摘要

本发明提供一种光掩模的制造方法、图案转印方法以及显示装置的制造方法，即使在被加工体上形成细微的间距宽度的线与间隙图案的情况下，也基本不需要追加投资地进行图案形成。设定基于蚀刻被加工体时的蚀刻条件的侧蚀刻宽度α。根据侧蚀刻宽度α、膜图案的线宽WL和间隙宽度WS，确定转印用图案的线宽ML、间隙宽度MS。并且，确定在曝光时应用的曝光条件和半透光膜的光透射率，以便通过使用了具有所确定的线宽ML、间隙宽度MS的转印用图案的光掩模的曝光和蚀刻，在被加工体上形成线宽WL、间隙宽度WS的线与间隙的膜图案。

主权项

一种光掩模的制造方法，该光掩模在透明基板上具有包含间距宽度P的线与间隙图案的转印用图案，所述线与间隙图案具有由形成在所述透明基板上的半透光膜构成的线部分和由所述透明基板露出而形成的间隙部分，该光掩模通过使用了曝光装置和所述光掩模的曝光，在形成在被加工体上的抗蚀剂膜上转印所述转印用图案而形成线与间隙的抗蚀剂图案，通过将所述抗蚀剂图案用作掩模的蚀刻，在所述被加工体上形成线宽WL、间隙宽度WS的线与间隙的膜图案，在该光掩模的制造方法中，其特征在于，确定基于蚀刻所述被加工体时的蚀刻条件的侧蚀刻宽度α，根据所述侧蚀刻宽度α、所述膜图案的线宽WL和间隙宽度WS，确定所述转印用图案的线宽ML、间隙宽度MS，并且，确定在所述曝光时应用的曝光条件和所述半透光膜的光透射率，以便通过使用所述光掩模的所述曝光、和所述蚀刻，在所述被加工体上形成线宽WL、间隙宽度WS的线与间隙的所述膜图案，所述光掩模具有所确定的所述线宽ML、间隙宽度MS的所述转印用图案。