[发明专利]利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法无效

专利信息
申请号: 201210075141.0 申请日: 2012-03-21
公开(公告)号: CN102583408A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 朱萍;周鸣;王良有;陈艳;周劲 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C01B33/22 分类号: C01B33/22
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法,属于物理技术材料改性技术领域。本发明的特点是将蛇纹石粉末放入离子注入机中,并对离子注入机的腔体进行抽真空,真空度要求为1×10-3-1×10-6Torr;以离子形式注入NH3,离子注入能量为30-60kev;注入通量为1×1017cm-2;注入时间为3-20min;最后将经离子注入后的样品取出,即获得有“N”元素注入的蛇纹石样品。
搜索关键词: 利用 离子 注入 技术 蛇纹石 进行 改性 方法
【主权项】:
一种利用离子注入技术对蛇纹石进行改性的方法,其特征在于具有以下的过程和步骤:a、取一定量的蛇纹石样品,经粉碎和球磨,得到粒径小于100μm的蛇纹石矿粉;将该蛇纹石粉末放入离子注入机的腔体中,并且对离子注入机的腔体进行抽真空;真空度要求为1×10‑3‑1×10‑6 Torr;b、以离子形式注入NH3,离子注入能量为30‑60 kev;注入通量为1×1017cm‑2;注入时间为3‑20min;c、最后将上述离子注射后的样品从离子注入机中取出,获得插入有“N”元素的蛇纹石样品。
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