[发明专利]一种调节等离子体处理腔电场分布的供电系统

摘要

本发明公开了一种调节等离子体处理室电场分布的供电系统，所述的供电系统位于射频功率源和下电极之间，包括第一功率分配电路和第二功率分配电路，第一功率分配电路和第二功率分配电路和下电极上的不同点连接，在下电极上形成两组形状不同的驻波，通过调节两路功率分配电路上的相位调节器和可调电容，实现对两组驻波的相位和电压幅值的调节，从而实现对下电极上的电场分布均匀性可调，使得下电极的电场分布满足各种等离子体处理的需要，更好的完成对待处理基片的加工处理。

主权项

一种调节等离子体处理腔内电场均匀的供电系统，所述等离子体处理腔内包括一上电极和一下电极，所述供电系统连接于所述下电极或上电极之一和一射频功率源之间，其特征在于：所述供电系统包括：一匹配网络，连接所述的射频功率源；一相位调节器，用于调节输入信号的相位；一可调电容，用于分配输入功率；所述匹配网络输出端包括第一功率分配电路和第二功率分配电路，所述的相位调节器和所述的可调电容位于第一功率分配电路和第二功率分配电路的一路或两路上；所述第一功率分配电路输出端与所述供电系统所连接电极的中心区域电连接，所述第二功率分配电路有多个输出端，与所述供电系统所连接电极有多个电连接点，所述多个电连接点构成一个或多个与所述供电系统所连接电极圆心相同的同心圆，位于同一同心圆上的多个电连接点中相邻两电连接点的距离相等。