[发明专利]一种(BiFeO3)m/(La0.7Sr0.3MnO3)n多层薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201210065339.0 | 申请日： | 2012-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN102586747A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王顺利;朱晖文;李培刚;唐为华 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 浙江英普律师事务所 33238 | 代理人： | 陈小良 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种(BiFeO3)m/(La0.7Sr0.3MnO3)n多铁材料薄膜的制备方法。本发明采用磁控溅射法，将衬底固定，抽真空，通入一定体积流量比的氩气和氧气，将气压调整到一定值，设定衬底温度，开射频源起辉，待机器各方面参数稳定一段时间，打开样片挡板开始沉积薄膜，交替沉积4个周期后，关闭射频源，停止起辉。在STO衬底上所得样品即为[(BiFeO3)20/(La0.7Sr0.3MnO3)10]4多层薄膜。本发明的优点：工艺可控性强，易操作，成本低，制得的产物纯度高。本发明所制备的产品在信息存储、自旋电子器件、磁传感器等领域具有广泛的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 bifeo sub la 0.7 sr 0.3 mno 多层 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种(BiFeO3)m/(La0.7Sr0.3MnO3)n多层薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：(1)将已经清洗好的SrTiO3为衬底固定在托板上，关好各气阀后抽真空，直至真空度达到1.0×10‑4Pa以上，通入氩气和氧气，调节分子泵闸板阀，将气压调整到1‑3Pa；(2)设定衬底温度为700‑750℃，开射频源起辉，溅射功率分别为100‑110W对靶材预溅射5分钟，然后升高射频功率至115‑120W进行溅射；(3)待机器各方面参数稳定后；先在SrTiO3衬底上通过溅射、沉积LSMO薄膜；然后用硅片遮住一半的LSMO薄膜区域，再用溅射、沉积BFO薄膜；按上述先沉积LSMO薄膜、再沉积BFO薄膜的交替沉积过程进行4个周期，关闭射频源，停止起辉，在SrTiO3衬底上所得样品即为[(BiFeO3)20/(La0.7Sr0.3MnO3)10]4多层薄膜材料。
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