[发明专利]一种(BiFeO3)m/(La0.7Sr0.3MnO3)n多层薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201210065339.0 | 申请日： | 2012-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN102586747A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 王顺利;朱晖文;李培刚;唐为华 | 申请（专利权）人： | 浙江理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 浙江英普律师事务所 33238 | 代理人： | 陈小良 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 bifeo sub la 0.7 sr 0.3 mno 多层 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种(BiFeO3)m/(La0.7Sr0.3MnO3)n多层薄膜材料的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：
(1)将已经清洗好的SrTiO3为衬底固定在托板上，关好各气阀后抽真空，直至真空度达到1.0×10-4Pa以上，通入氩气和氧气，调节分子泵闸板阀，将气压调整到1-3Pa；
(2)设定衬底温度为700-750℃，开射频源起辉，溅射功率分别为100-110W对靶材预溅射5分钟，然后升高射频功率至115-120W进行溅射；
(3)待机器各方面参数稳定后；先在SrTiO3衬底上通过溅射、沉积LSMO薄膜；然后用硅片遮住一半的LSMO薄膜区域，再用溅射、沉积BFO薄膜；
按上述先沉积LSMO薄膜、再沉积BFO薄膜的交替沉积过程进行4个周期，关闭射频源，停止起辉，在SrTiO3衬底上所得样品即为[(BiFeO3)20/(La0.7Sr0.3MnO3)10]4多层薄膜材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(1)中SrTiO3的清洗过程为：先用乙醇浸泡SrTiO3片，并用超声波清洗10min，再用去离子水冲洗，然后用丙酮浸泡、再用超声波清洗10min，用去离子水冲洗，之后自然干燥。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(1)中靶材与基片距离为100mm。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(1)中溅射室的背底真空度为1.0×10-4Pa。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(3)中沉积LSMO时，氩气与氧气的体积流量比分别为16∶4；沉积BFO薄膜时，氩气与氧气的体积流量比分别为14∶6。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(3)中沉积LSMO和BFO薄膜时的工作气压分别为1.2Pa和2.5Pa。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(3)中沉积LSMO和BFO薄膜时的溅射功率分别为100-110W和115-120W。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于步骤(3)中每次沉积LSMO和每次沉积BFO薄膜时的溅射时间分别为30min和16min。
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