[发明专利]一种带低能电子束装置的真空压力浸渍方法及设备有效

专利信息
申请号: 201210054783.2 申请日: 2012-03-05
公开(公告)号: CN102553805A 公开(公告)日: 2012-07-11
发明(设计)人: 姜其斌;邓青山 申请(专利权)人: 株洲时代新材料科技股份有限公司
主分类号: B05D3/14 分类号: B05D3/14;B05D1/18;B05C3/02;B05C11/00
代理公司: 上海硕力知识产权代理事务所 31251 代理人: 王法男
地址: 412007 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明属于一种带低能电子束装置的真空压力浸渍方法及设备,包括贮漆缸、浸渍缸、抽真空装置、加热装置和冷却装置,贮漆缸通过管道连接在浸渍缸下面,加热装置也通过管道连接在浸渍缸旁边;在浸渍缸顶部还通过管道连接有冷却装置;在浸渍缸和贮漆缸上都设有抽真空装置;其特征在于:在浸渍缸旁边设有低能电子束装置,低能电子束装置与浸渍缸用管道连接,在低能电子束装置与浸渍缸连接的管道中间有一层钛箔;本发明可减少环境污染,提高生产效率,提高漆膜性能,改善产品质量。
搜索关键词: 一种 低能 电子束 装置 真空 压力 浸渍 方法 设备
【主权项】:
一种带低能电子束装置的真空压力浸渍设备,包括贮漆缸、浸渍缸、抽真空装置、加热装置和冷却装置,贮漆缸通过管道连接在浸渍缸下面,加热装置也通过管道连接在浸渍缸旁边;在浸渍缸顶部还通过管道连接有冷却装置;在浸渍缸和贮漆缸上都设有抽真空装置;其特征在于:在浸渍缸旁边设有低能电子束装置,低能电子束装置与浸渍缸用管道连接,在低能电子束装置与浸渍缸连接的管道中间有一层钛箔。
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