[发明专利]一种新的Cu(InGa)Se2薄膜太阳电池缓冲层制备方法无效
申请号: | 201210054340.3 | 申请日: | 2012-03-05 |
公开(公告)号: | CN103296131A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 马格林;张建柱;孙玉娣;彭博 | 申请(专利权)人: | 任丘市永基光电太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 062550 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 一种新的Cu(InGa)Se2(简称CIGS)薄膜太阳电池缓冲层的制备方法,此制备方法采用先对CIGS吸收层表面进行刻蚀处理,再沉积缓冲层,其中缓冲层由In2S3和CdS构成,In2S3由化学溅射热解(CSP)法沉积,CdS层由化学水浴法沉积(CBD)制备,在CBD法沉积CdS时,溶液中加入了阳离子体系消泡剂。这种方法制备的缓冲层不但对CIGS吸收层的覆盖度高,晶粒致密,无针孔,而且缓冲层表面呈镜面状。用它制备的CIGS薄膜太阳电池具有高的开路电压,高的填充因子和短路电流密度,高的光电转换效率和高的器件可靠性。 | ||
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【主权项】:
一种新的CIGS薄膜太阳电池缓冲层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:首先采用Br2‑CH3OH溶液对涂覆钼的钠钙玻璃衬底上沉积的CIGS吸收层表面进行刻蚀处理,以除去二次相Cu2Se,并使CIGS吸收层表面成镜面状;接着用热氨水对CIGS吸收层表面进行刻蚀处理,以除去其表面的Na和O的化合物;随后通过CSP法在CIGS吸收层表面形成In2S3膜层;最后用加有阳离子表面消泡剂的CBD工艺在In2S3表面沉积CdS薄膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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