[发明专利]碱性存储器硬盘抛光组合物无效
申请号: | 201210046523.0 | 申请日: | 2012-02-28 |
公开(公告)号: | CN102618175A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 张金平;唐会明;徐功涛 | 申请(专利权)人: | 南通海迅天恒纳米科技有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人: | 卢霞 |
地址: | 226600 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种碱性存储器硬盘抛光组合物,所述的组合物包括如下组分:磨料、络合剂、氧化剂、助蚀剂和水,其中所述的磨料的重量百分含量为2-20%,所述的络合剂的重量百分含量为0.5-3%,所述的氧化剂的重量百分含量为0.05-1%,所述的助蚀剂的重量百分含量为0.1-2%。本发明的碱性存储器硬盘抛光组合物,具有如下技术效果:可用于计算机硬盘基片的粗抛光,抛光速率高,抛光后硬盘基片的表面平坦度好,解决了氧化铝硬盘抛光液存在的划伤问题,也解决了酸性抛光液对设备的严重腐蚀问题。 | ||
搜索关键词: | 碱性 存储器 硬盘 抛光 组合 | ||
【主权项】:
碱性存储器硬盘抛光组合物,其特征在于,所述的组合物包括如下组分:磨料、络合剂、氧化剂、助蚀剂和水,其中所述的磨料的重量百分含量为2‑20%,所述的络合剂的重量百分含量为0.5‑3%,所述的氧化剂的重量百分含量为0.05‑1%,所述的助蚀剂的重量百分含量为0.1‑2%。
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