[发明专利]碱性存储器硬盘抛光组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种组合物，具体地说，涉及一种碱性存储器硬盘抛光组合物。

背景技术

硬盘基片多数采用薄膜复合结构，主要有铝镁合金基板、玻璃基板、微晶玻璃基板等。目前，大多数硬盘采用铝镁合金基板作为磁盘盘片，在铝镁合金基板表面沉积一薄层NiP(镍与磷重量比约为90：1 0)， 以提高其表面硬度。为了减少硬盘表面的粗糙度，或存在的其他表面缺陷，常常需要对硬盘表面进行化学机械抛光。

目前市场上存在的用于存储器硬盘的抛光液主要有两种产品：以氧化铝为磨料的酸性粗抛液和以硅溶胶为磨料的酸性精抛液。酸性氧化铝抛光液的抛光速率很高，而酸性硅溶胶硬盘抛光液的抛光速率很低；由于氧化铝的硬度很大，其抛光液对硬盘进行粗抛后，表面有很多划伤，而这些划伤在后续的精抛过程中很难去除，从而影响了硬盘基片的表面质量。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术的不足之处，提供一种碱性存储器硬盘抛光组合物。

本发明的碱性存储器硬盘抛光组合物，包括如下组分：磨料、络合剂、氧化剂、助蚀剂和水，其中所述的磨料的重量百分含量为2-20%，所述的络合剂的重量百分含量为0.5-3%,所述的氧化剂的重量百分含量为0.05-1%，所述的助蚀剂的重量百分含量为0.1-2%。

所述的磨料为硅溶胶，所述的硅溶胶的粒径为80-150nm，pH值为9-10。

所述的络合剂选自氨水、四甲基氢氧化铵、羟乙基乙二胺、四羟乙基乙二胺、氨三乙酸、氨三乙酸三钠、乙二胺四乙酸、氨基磺酸、氨基磺酸铵和二乙烯三胺五乙酸中的一种或多种。

所述的氧化剂选自过硫酸铵、过硫酸钠、过硫酸钾、过碳酸钠、氯酸钾、高铁酸铵、双氧水或高氯酸钾。

所述的助蚀剂选自氟化钾、氟化钠、氟化铵或四甲基氟化铵。

本发明的碱性存储器硬盘抛光组合物的制备方法如下：称取一定量硅溶胶(浓度为40-45%)，加纯水稀释至一定浓度，然后在搅拌的条件下加入含有络合剂、氧化剂、助蚀剂、活性剂的水溶液，再加纯水稀释至磨料浓度为2-20%，最后充分搅拌10min即可。

本发明的碱性存储器硬盘抛光组合物，具有如下技术效果：可用于计算机硬盘基片的粗抛光，抛光速率高，抛光后硬盘基片的表面平坦度好，解决了氧化铝硬盘抛光液存在的划伤问题，也解决了酸性抛光液对设备的严重腐蚀问题。

具体实施方式

下面结合具体实施方式来对本发明作进一步地详细说明。

实施例1  

配制1.5kg碱性存储器硬盘抛光组合物，包括以下步骤：

1)称取75g 130nm硅溶胶(浓度为40%)，加纯水稀释至1.0kg；

2)称取200g纯水，缓慢加入7.5g氨水；

3)称取1.5g氟化铵加入到2)中，搅拌至溶解；

4)称取0.75g过硫酸铵加入3)中，搅拌至溶解；

5)将4)加入至1)中，搅拌均匀；

6)加完上述物质后，加纯水至总质量1.5kg，再搅拌10min。

实施例2

配制1.5kg碱性存储器硬盘抛光组合物，包括以下步骤：

1)称取187.5g  90-110nm硅溶胶(浓度为40%)，加纯水稀释至1.0kg；

2)称取200g纯水，缓慢加入7.5g氨水；

3)称取3g四甲基氢氧化铵加入到2)中，搅拌至溶解；

4)称取3g氟化钾加入到3)中，搅拌至溶解；

5)称取3g过硫酸钠加入4)中，搅拌至溶解；

6)称取6g氨基磺酸，加15g氨水溶解； 7)将6)加入到5)中，搅拌均匀；

8)将7)加入1)中，搅拌均匀；

9)加完上述物质后，加纯水至总质量1.5kg，继续搅拌10min。

实施例3

配制1.5kg碱性存储器硬盘抛光组合物，包括以下步骤：

1)  称取375g  130nm硅溶胶(浓度为40%)，加纯水稀释至1.0kg；

2)称取200g纯水，缓慢加入15g氨水；

3)称取3g氨三乙酸加入到2)中，搅拌至溶解；

4)称取6g氟化钠加入到3)中，搅拌至溶解；

5)称取3g过硫酸钾加入4)中，搅拌至溶解；

6)将5)加入至1)中，搅拌均匀；

7)加完上述物质后，加纯水至总质量1.5kg，再搅拌10min。

实施例4