[发明专利]内容可寻址存储器有效

专利信息
申请号: 201210043857.2 申请日: 2012-02-24
公开(公告)号: CN102651234A 公开(公告)日: 2012-08-29
发明(设计)人: 丸亀孝生;井口智明;杉山英行;石川瑞恵;齐藤好昭;木下敦宽;辰村光介 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: G11C15/00 分类号: G11C15/00;G11C15/04
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 王朝辉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及内容可寻址存储器。一个实施例提供一种内容可寻址存储器,包括:自旋MOSFET对,所述自旋MOSFET对包括:第一自旋MOSFET,第一自旋MOSFET的磁化状态根据存储数据而设置;和第二自旋MOSFET,第二自旋MOSFET的磁化状态根据存储数据而设置,第二自旋MOSFET与第一自旋MOSFET并联连接;第一布线,第一布线被构造为施加栅电压,以使得第一自旋MOSFET和第二自旋MOSFET中的任何一个根据搜索数据变为导电;和第二布线,第二布线被构造为将电流施加于第一自旋MOSFET和第二自旋MOSFET这二者。
搜索关键词: 内容 寻址 存储器
【主权项】:
一种内容可寻址存储器,包括:自旋MOSFET对,所述自旋MOSFET对包括:第一自旋MOSFET,所述第一自旋MOSFET的磁化状态根据存储数据而设置;和第二自旋MOSFET,所述第二自旋MOSFET的磁化状态根据所述存储数据而设置,所述第二自旋MOSFET与所述第一自旋MOSFET并联连接;第一布线,所述第一布线被构造为施加栅电压,以使得所述第一自旋MOSFET和所述第二自旋MOSFET中的任何一个根据搜索数据变为导电;和第二布线,所述第二布线被构造为将电流施加于所述第一自旋MOSFET和所述第二自旋MOSFET这二者。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201210043857.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top