[发明专利]使用含有有机溶剂的显影液的显影处理方法和显影处理装置无效
| 申请号： | 201210043808.9 | 申请日： | 2012-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN102650835A | 公开（公告）日： | 2012-08-29 |
| 发明（设计）人： | 本武幸一;丹羽崇文;京田秀治;吉原孝介 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种显影处理方法和显影处理装置，其在使用含有有机溶剂的显影液的显影处理中，能够使处理时间缩短并能够使处理能力提高。在对在表面涂布有抗蚀剂并对抗蚀剂进行曝光后的基板供给含有有机溶剂的显影液来进行显影的显影处理方法中，具有：使基板旋转(步骤S1)，并从显影液供给喷嘴对基板的中心部供给显影液，形成液膜形成的液膜形成工序(步骤A)；和停止从显影液供给喷嘴向基板供给显影液，并在不使显影液的液膜干燥的状态下一边使基板旋转，一边对基板上的抗蚀剂膜进行显影的显影工序(步骤B)。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 含有 有机溶剂 显影液 显影 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种显影处理方法，其对在表面被涂布抗蚀剂并被曝光后的基板供给含有有机溶剂的显影液来进行显影，该显影处理方法的特征在于，包括：液膜形成工序，一边使所述基板旋转，一边从显影液供给喷嘴对所述基板的中心部供给所述显影液来形成液膜；和显影工序，停止从所述显影液供给喷嘴向所述基板供给所述显影液，并在不使所述显影液的液膜干燥的状态下一边使所述基板旋转，一边将所述基板上的抗蚀剂膜显影。
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