[发明专利]具有双温度区的静电吸盘的衬底支架

摘要

一种具有双温度区的静电吸盘的衬底支架。本发明公开了一种在衬底处理腔室中用于容纳衬底的静电吸盘，包括具有衬底容纳表面和具有多个隔开的台面的相对的背面的陶瓷圆盘。电极嵌入在陶瓷圆盘中以产生静电力以保持衬底。位于陶瓷圆盘的外围和中心部分的加热线圈允许对陶瓷圆盘的中心和外围部分进行温度独立控制。通过具有容纳空气的凹槽的底座支撑吸盘。吸盘和底座协作以允许在腔室中调整衬底的温度分布。

主权项

一种在处理腔室中用于容纳衬底的衬底支架，所述衬底支架包括：(a)静电吸盘，所述静电吸盘包括：(i)包括衬底容纳表面和相对的背面、以及具有台阶的外围壁架的陶瓷圆盘；(ii)穿过所述陶瓷圆盘并且在所述衬底容纳表面上的端口处终止的多个热传送气体导管；和(iii)嵌入在所述陶瓷圆盘中的电极；(b)底座，所述底座包括金属主体，所述金属主体具有顶表面，所述顶表面包括吸盘容纳部分和外围部分，所述吸盘容纳部分容纳所述陶瓷圆盘的所述背面，所述外围部分径向向外延伸超过所述陶瓷圆盘，所述吸盘容纳部分包括跨过所述陶瓷圆盘的整个背面的外围凹槽；(c)边缘环，所述边缘环设置在所述陶瓷圆盘的所述外围壁架的台阶上；以及(d)锁紧环，所述锁紧环固定到所述底座上的所述外围部分，所述锁紧环具有径向向内延伸以放置在所述陶瓷圆盘的所述外围壁架上的唇缘。