[发明专利]用于导电体的接触系统有效
| 申请号： | 201210031124.7 | 申请日： | 2012-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN102610404A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | M·曼;T·尚伯格;J·斯卡拉比施 | 申请（专利权）人： | ABB技术有限公司 |
| 主分类号： | H01H1/58 | 分类号： | H01H1/58 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 汤春龙;卢江 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明用于导电体的接触系统，涉及用于连接导体(21、22)、尤其是连接用于承载高电流强度的电导体的接触装置，其中所述接触装置具有第一元件和第二元件(31、32)、尤其是第一环和第二环，所述第一元件和第二元件(31、32)具有用于容纳第一导体(21)的内槽和用于容纳到空心柱形的第二导体(22)中的外部轮廓，其中所述元件分别具有环绕着内槽的接触元件(4)，所述接触元件在垂直于被所述元件(31、32)包围的内槽的方向上从相应元件(31、32)凸出并且在所述元件之间分别设置有槽，以便容纳相应其它元件的接触元件(4)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 导电 接触 系统 | ||
【主权项】：
用于连接导体(21、22)、尤其是连接用于承载高电流强度的导电体的接触装置，其中所述接触装置具有第一元件和第二元件(31、32)、尤其具有第一环和第二环，所述第一元件和第二元件(31、32)具有用于容纳第一导体(21)的内槽和用于容纳到空心柱形的第二导体(22)中的外部轮廓，其中所述元件(31、32)分别具有环绕着所述内槽的接触元件(4)，所述接触元件(4)在垂直于被所述元件(31、32)包围的内槽的方向上从相应元件(31、32)凸出并且在所述元件(31、32)之间分别设置有槽，以便容纳相应其它元件的接触元件。
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