[发明专利]软X射线双频光栅及其制作方法

摘要

本发明提供一种能够工作于软X射线波段的双频光栅及其制作方法，属于光栅制作技术领域。将两种不同频率的矩形槽光栅制作在同一块基底上，形成双频光栅结构。该结构的制作方法是采用两次全息曝光-离子束刻蚀技术，在同一块光学基底上，制作两组频率相近的双频光栅。该双频光栅结构及制作方法使得每组光栅的槽型结构能精确控制，因此能满足软X射线波段对光栅槽型的精度要求。该光栅能提供两束夹角很小且光强相等的光束进行自剪切干涉。本发明的双频光栅的结构和制作方法解决了软X射线波段剪切干涉系统中剪切元件制作的难题，为利用剪切法诊断等离子体电子密度提供了关键技术。

主权项

一种软X射线双频光栅，包括光栅基片，所述光栅基片一侧面为光面，另一侧面上有工作光栅，其特征在于：所述工作光栅为两组矩形槽光栅刻蚀在同一块基底组成，且两组光栅的栅线相互平行，两组光栅在空间上相互叠加；所述工作光栅中的两组光栅的槽深与占空比相同。