[发明专利]集成电路设计与制造方法有效
| 申请号： | 201210015548.4 | 申请日： | 2012-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN103218466A | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 侯信铭;龚吉富 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 史新宏 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种集成电路设计与制造方法，其包含下列步骤：提供一集成电路布局；至少从集成电路布局中找出一第一组热点与一第二组热点；根据第一组热点与第二组热点与一产品功能特性而产生一热点评分；以及当热点评分大于一标准值时，利用第一组热点与第二组热点对集成电路布局进行修正。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路设计 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种集成电路设计与制造方法，其包含下列步骤：提供一集成电路布局；至少从该集成电路布局中找出一第一组热点与一第二组热点；根据该第一组热点与该第二组热点与一产品功能特性而产生一热点评分；以及当该热点评分大于一标准值时，利用该第一组热点与该第二组热点对该集成电路布局进行修正。
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