[发明专利]真空隔离阀装置无效
申请号: | 201210011850.2 | 申请日: | 2012-01-16 |
公开(公告)号: | CN103206552A | 公开(公告)日: | 2013-07-17 |
发明(设计)人: | 胡冬冬;周宗义;刘训春;夏洋 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;北京泰龙电子技术有限公司 |
主分类号: | F16K3/02 | 分类号: | F16K3/02;F16K27/04;F16K51/02 |
代理公司: | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 公开了一种真空隔离阀装置,包括:设置有方孔结构的阀体、密封部件、连接过渡部件及活动阀板;所述密封部件设置在所述阀体上端中央位置,用于半导体真空腔室之间连通时的密封;所述连接过渡部件通过所述密封部件与所述活动阀板连接,通过外力作用控制所述活动阀板的升降。本发明提供的一种真空隔离阀装置,能缩小硅片传输距离或使传输距离可调整,便于装配、维修;结构简单,节约材料及生产加工成本,可实现同不同腔体连接,机构简单、成本经济、稳定性高、便于维护。 | ||
搜索关键词: | 真空 隔离 装置 | ||
【主权项】:
一种真空隔离阀装置,其特征在于,包括:设置有方孔结构的阀体、密封部件、连接过渡部件及活动阀板;所述密封部件设置在所述阀体上端中央位置,用于半导体真空腔室之间连通时的密封;所述连接过渡部件通过所述密封部件与所述活动阀板连接,通过外力作用控制所述活动阀板的升降。
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