[发明专利]一种曝光修正补偿方法有效
| 申请号： | 201210010746.1 | 申请日： | 2012-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN103207526A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;陈龙英;莫松亭 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种曝光修正补偿方法，包括：S10：进行试验文件的编辑、设定分区；S11：对图形文件进行无任何修正补偿的曝光；S12：按分区对产品进行检测，记录下每一个分区中IC开口在X与Y方向上的尺寸X’1、Y’1；X’2、Y’2；……X’m、Y’m；S13：计算出缩放倍率；S14：对X、Y方向的数据进行分析，分别拟合成相应的关系公式，分别得出不同类型IC开口补偿数据X补、Y补；S15：确定补偿数据后在文件上应用并制作产品验证再现性。本发明曝光修正补偿方法在文件上补偿，主要可以达到校正开口的作用，其比一般通过补偿光罩、曝光设备方法更方便、更经济、更有效可行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 修正 补偿 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光修正补偿方法，其特征在于，包括如下步骤：S10：进行试验文件的编辑、设定分区；S11：对图形文件进行无任何修正补偿的曝光；S12：按步骤S10的分区对产品进行检测，记录下每一个分区中IC开口在X与Y方向上的尺寸X’1、Y’1；X’2、Y’2 ；……X’m、Y’m；S13：将X’ (X’1、X’2、……X’m)与X(X1、X2、……Xm)进行比较，Y’ (Y’1、Y’2、……Y’m)与Y(Y1、Y2、……Ym)进行比较，计算出缩放倍率；S14：经过至少2次以上试验，对X、Y方向的数据进行分析，分别拟合成相应的关系公式，分别得出不同类型IC开口补偿数据X补、Y补 ；S15：确定补偿数据后在文件上应用并制作产品验证再现性。
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