[发明专利]一种曝光修正补偿方法

权利要求书

1.一种曝光修正补偿方法，其特征在于，包括如下步骤：

S10：进行试验文件的编辑、设定分区；

S11：对图形文件进行无任何修正补偿的曝光；

S12：按步骤S10的分区对产品进行检测，记录下每一个分区中IC开口在X与Y方向上的尺寸X^’₁、Y^’₁；X^’₂、Y^’₂ ；……X^’_m、Y^’_m；

S13：将X^’ (X^’₁、X^’₂、……X^’_m)与X(X₁、X₂、……X_m)进行比较，Y^’ (Y^’₁、Y^’₂、……Y^’_m)与Y(Y₁、Y₂、……Y_m)进行比较，计算出缩放倍率；

S14：经过至少2次以上试验，对X、Y方向的数据进行分析，分别拟合成相应的关系公式，分别得出不同类型IC开口补偿数据X_补、Y_补 ；

S15：确定补偿数据后在文件上应用并制作产品验证再现性。

2.如权利要求1所述的曝光修正补偿方法，其特征在于：所述步骤S10具体为：设定分区，并在分区中编辑同一类型的IC开口，数量为N个；由于不同区域的IC开口要求不一样，包括形状与尺寸大小，所以将不同分区打上标定与区分的字符；对于不同分区的IC开口记录下X与Y方向尺寸X₁、Y₁ ；X₂、Y₂ ；……X_m、Y_m 。

3.如权利要求2所述的曝光修正补偿方法，其特征在于：所述步骤S12中数据的检测系采用先进的设备四合一进行获取，精度高。

4.如权利要求3所述的曝光修正补偿方法，其特征在于：所述步骤S14数据的分析系采用专门的数据分析软件进行拟合，再得出最优参数组合。