[发明专利]位相差膜的制法无效
| 申请号： | 201210008547.7 | 申请日： | 2012-01-11 |
| 公开（公告）号： | CN103207425A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 张建成;陈秋芳;邱大任;洪维泽 | 申请（专利权）人： | 远东新世纪股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 张雅军;罗会英 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种位相差膜的制法，其包含(a)在基材上形成光配向层，该光配向层具有远离该基材的配向面，该配向面具有欲配向的多个第一区与多个第二区；(b)将该光配向层曝露于具有第一偏极方向的第一线性偏极紫外光下，使该光配向层具有第一配向；(c)在图样化光罩的遮蔽下，将该光配向层的所述第二区曝露于具有第二偏极方向的第二线性偏极紫外光下，使该光配向层的所述第二区转变为具有第二配向，借此，得到具有两种配向的光配向层；及(d)将液晶涂布于该具有两种配向的光配向层上，再使该液晶固化。 | ||
| 搜索关键词： | 相差 制法 | ||
【主权项】：
一种位相差膜的制法，其特征在于其包含：(a)在基材上形成光配向层，该光配向层具有远离该基材的配向面，该配向面具有欲配向的多个第一区与多个第二区；(b)将该光配向层的所述第一区与所述第二区曝露于具有第一偏极方向的第一线性偏极紫外光下，使该光配向层的所述第一区与所述第二区具有第一配向；(c)在图样化光罩的遮蔽下，将该具有第一配向的光配向层的所述第二区曝露于具有不同于该第一偏极方向的第二偏极方向的第二线性偏极紫外光下，使该光配向层的所述第二区转变为具有第二配向，而所述第一区仍维持具有第一配向，借此，得到具有两种配向的光配向层；及(d)将液晶涂布于该具有两种配向的光配向层上，再使该液晶固化，得到具有两种配向方向的位相差膜。
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