[发明专利]位相差膜的制法无效

申请号：	201210008547.7	申请日：	2012-01-11
公开（公告）号：	CN103207425A	公开（公告）日：	2013-07-17
发明（设计）人：	张建成;陈秋芳;邱大任;洪维泽	申请（专利权）人：	远东新世纪股份有限公司
主分类号：	G02B5/30	分类号：	G02B5/30
代理公司：	北京泰吉知识产权代理有限公司 11355	代理人：	张雅军;罗会英
地址：	中国台***	国省代码：	中国台湾;71
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摘要：
搜索关键词：	相差制法
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【权利要求书】：

1.一种位相差膜的制法，其特征在于其包含：

(a)在基材上形成光配向层，该光配向层具有远离该基材的配向面，该配向面具有欲配向的多个第一区与多个第二区；

(b)将该光配向层的所述第一区与所述第二区曝露于具有第一偏极方向的第一线性偏极紫外光下，使该光配向层的所述第一区与所述第二区具有第一配向；

(c)在图样化光罩的遮蔽下，将该具有第一配向的光配向层的所述第二区曝露于具有不同于该第一偏极方向的第二偏极方向的第二线性偏极紫外光下，使该光配向层的所述第二区转变为具有第二配向，而所述第一区仍维持具有第一配向，借此，得到具有两种配向的光配向层；及

(d)将液晶涂布于该具有两种配向的光配向层上，再使该液晶固化，得到具有两种配向方向的位相差膜。

2.根据权利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：该基材的材料是选自纤维素系树脂、聚酯系树脂、醋酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫系树脂、聚二氯乙烯系树脂或甲基丙烯酸系树脂。

3.根据权利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：该基材的种类是选自离型膜、偏光板、保护膜、扩散膜、扩散板、导光板、增亮膜、可挠式面板或触控面板。

4.根据权利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：该步骤(a)中的光配向层是由光致异构型材料所形成。

5.根据权利要求4所述的位相差膜的制法，其特征在于：该步骤(a)中的光配向层是由偶氮苯系树脂所形成。

6.根据权利要求4所述的位相差膜的制法，其特征在于：该光配向层在步骤(b)中曝露于该第一线性偏极紫外光的累积曝光能量为不高于160mJ/cm²。

7.根据权利要求4所述的位相差膜的制法，其特征在于：该光配向层在步骤(b)中曝露于该第一线性偏极紫外光的累积曝光能量的范围为10-150mJ/cm²。

8.根据权利要求1所述的位相差膜的制法，其特征在于：该步骤(a)中的光配向层是由光致交联型材料所形成。

9.根据权利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：该步骤(a)中的光配向层是由肉桂酸酯系树脂所形成。

10.根据权利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：该光配向层在步骤(b)中曝露于该第一线性偏极紫外光的累积曝光能量为不高于300mJ/cm²。

11.根据权利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：该光配向层在步骤(b)中曝露于该第一线性偏极紫外光的累积曝光能量的范围为20-300mJ/cm²。

12.根据权利要求8所述的位相差膜的制法，其特征在于：该光配向层在步骤(b)中曝露于该第一线性偏极紫外光的累积曝光能量的范围为20-100mJ/cm²。

13.根据权利要求1至12中任一权利要求所述的位相差膜的制法，其特征在于：在步骤(c)中，该光配向层曝露于该第二线性偏极紫外光的累积曝光能量为不低于曝露于该第一线性偏极紫外光的累积曝光能量。

14.根据权利要求13所述的位相差膜的制法，其特征在于：在步骤(c)中，该光配向层曝露于该第二线性偏极紫外光的累积曝光能量为不高于500mJ/cm²。