[发明专利]一种采用镜像硅片台的光刻机有效
| 申请号： | 201210005214.9 | 申请日： | 2012-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN103197506A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 杨志勇 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种采用镜像硅片台的光刻机，包括照明系统，掩模台，投影物镜，硅片台，硅片传输系统以及位置测量系统，其特征在于：在硅片台上以硅片台中心为对称点可左右放置第一硅片和第二硅片；沿硅片台方向在硅片台中心及所述硅片外侧分别布置第一位置测量基准、第二位置测量基准和第三位置测量基准，用于提供水平向和垂向六自由度的参考位置，所述位置测量基准及所述硅片的中心点处在一条直线上且相邻各点间间距相等；所述位置测量系统包括对称布置在投影物镜两侧的第一位置测量系统和第二位置测量系统，每个所述位置测量系统的测量轴到投影物镜光轴的距离等于硅片台上相邻两个所述位置基准的间距，所述测量轴和投影物镜光轴处于同一平面内，并且硅片台上位置测量基准的连线与所述平面平行。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 采用 硅片 光刻 | ||
【主权项】：
一种采用镜像硅片台的光刻机，包括照明系统，掩模台，投影物镜，硅片台，硅片传输系统以及位置测量系统，其特征在于：在硅片台上以硅片台中心为对称点可左右放置第一硅片和第二硅片；沿硅片台方向在硅片台中心及所述硅片外侧分别布置第一位置测量基准、第二位置测量基准和第三位置测量基准，用于提供水平向和垂向六自由度的参考位置，所述位置测量基准及所述硅片的中心点处在一条直线上且相邻各点间间距相等；所述位置测量系统包括对称布置在投影物镜两侧的第一位置测量系统和第二位置测量系统，每个所述位置测量系统的测量轴到投影物镜光轴的距离等于硅片台上相邻两个所述位置基准的间距，所述测量轴和投影物镜光轴处于同一平面内，并且硅片台上位置测量基准的连线与所述平面平行。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司，未经上海微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201210005214.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
